第二百一十二章 请先生赴死！ (第1/2页)
云帝笑了笑，拿着烟的手指点了点那本工作证。
程进有些无奈了。
看个毛线！
难道工作证里面卿云级别比萧雅更高？
那他倒是会怀疑这个工作证是不是假的了。
毕竟高校也是体制，这里面有擢升，比如他，年纪轻轻便做了二级学院的院长。
但擢升也是有年龄限制的。
否则以他的‘成就’，立马评上院士都不为过的，不用非得等40岁。
看着他脸上的迟疑，云帝也是无语了，不耐烦的说着，
“打开看看！又不费你什么事的。再说了，你一个将死之人，我犯得着骗你吗？”
程进闻言又是一个白眼。
虽然他和卿云接触的时间很短。
但，其实，谁特么的不了解谁啊？
君子喻以义。
而他和卿云都是喻于利的小人，这一点他是不会看错的。
只是说，社会的毒打，让程进很清楚，这个分类是中间地带的，不是非此即彼的。
卿云图的是在保全他自己的小利基础上，努力在争取国家或者民族的大利。
黑到至极便是白？
程进摇了摇头，如卿云所愿的一般，打开了工作证。
不出所料，他呆住了。
“这……这……”
实现了恶趣味的云帝，嘿嘿的笑着，提醒着他，“钢印在哈，伱再看看日期。”
程进先是将工作证放在腿上，双手在裤腿上用力的擦了擦，这才把工作证捧在手里，仔细看着。
“1999年？”
看着上面的日期，程进嘴唇哆嗦了起来。
云帝乜了他一眼，淡淡的说着，“这个日期，可以把你从摩托骡拉偷图纸的行为，解释为……你懂的。”
说罢，他叹了口气，望着程进诚恳的说道，“老师，我能为你做的，我都做了。”
程进合上工作证将其双手按在自己胸膛上，闭上了眼睛，不过眼泪却从眼角处流了出来，喃喃的说道，“你早就算好了的。”
也不管程进看不看的见，卿云对着他摇了摇头，“不是，坦率的说，是前两天临时起意的。”
他拍了拍面前的中控台，继续说着，“原本我的计划里，此刻就是送你上路的时间。只不过……”
望着睁开眼睛的程进，云帝笑了笑，“毕竟师生一场，我担心以后你阴魂不散的，让我晚上睡不着觉。
而且，老实说，你成为烈士，我的利益可以最大化。”
程进抹了抹脸庞，笑了，“谢谢！”
抽了一张纸巾擤擤鼻涕后，他吸了吸鼻子，脸上却浮现起坚毅的神情，“需要我做什么？”
卿云递过去一张照片，“后天，荷兰有一个半导体行业的峰会，我用炎黄集团的名义搞到了一张邀请函。
你在明珠港转机的时候，会遇见他，杀了他。”
程进闻言皱起了眉头，“怎么是他？”
他的疑惑有很多，比如怎么杀，杀了之后他又该如何，当场自杀？
但相比起照片上的人而言，这些都是细枝末节了。
在他看来，这太不可思议了。
云帝乜了他一眼，“认识？”
程进回了一个白眼，“废话！我也是干这行的！虽然我确实水了点，但我毕竟是做科研的，行业领域内什么新动向我还是知道的。”
他手指点了点照片，“林本坚，夷积电高级工程师，在当前193nm光刻光源停滞了二十多年无法突破下，去年提出了浸入式光刻技术，算是一个另辟蹊径的发展方向。”
说到这里，他摇了摇头，“但是，他的理论，并不被当前的市场所接受。去年提出的时候，没有市场买单。
现在的路径一共四大阵营，尼康占主导的157nm激光、因特尔BMD摩托骡拉联合的13.5nmEUVLLC、NEC托西巴NTT和IBM联合的1nm接近式X光、朗讯贝尔实验室高的0.004nmEPL和0.00005nmIPL。
后面两个算是浪漫阵营，纯理论研究，他们就没想过产业化的事情。
而EUV太超前，短期内根本无法实现。
我个人还是更看好尼康的干式157nm技术路径。”
卿云笑了，他懒得和程进扯什么科学英雄史观的问题，更没兴趣和他聊技术路径路径，开口说道，
“荷兰的ASML正在和林本坚一起共同攻坚浸入式光刻技术。”
程进闻言摇了摇头，“没用的，浸入式通过水滴折射确实可以跳过157nm，直接做到134nm波长，而后就会被65nm的最高生产分辨率给卡住，到时候怎么办？
小卿，光刻是要遵循瑞利公式的，λ为光源波长、NA为数值孔径、k为光刻工艺系数，三者共同决定投影式光刻机分辨率CD。
光刻机的分辨率与光源波长成正比，想要制造出更小的尺寸，就需要缩短光源的波长，这也是光刻机世代演变的核心。
所以，你不管怎么折射，最终还是要通过光源的波长来解决问题。”
熟知后事的卿云很清楚，程进说的是对的。
浸入式、浸没式、浸润式，其光源都是193nm激光器，随后是根据瑞利公式的另一个参数：孔径，来实现精度的提高。
再之后，便是二次曝光技术，同样是基于193nm的光源。
而最终，在DUV后，ASML还是走了波长13.5nm的EUV路径。
但那是十来年后的事情了。
彼时的ASML已经一家独大，它的领先优势可以随意切换赛道，但此时的光刻机市场却并非如此。
此时还是群雄混战时期，谁先突破，便是赢家通吃。
ASML与尼康佳能的光刻机之战，其实是一个弱者在走投无路之下，抱着‘光脚的不怕穿鞋的’的赌命心态进行绝地突围的故事。
ASML能赢，并不在于林本坚的技术有多先进，而是在于林本坚给出了一个商业友好性极强的工艺方案。
在ASML推出浸入式193nm产品的半年后，尼康也宣布自己的157nm产品以及EPL产品样机完成。
然而，林本坚的浸入式属于小改进大效果，产品成熟度非常高，所以几乎没有人去订尼康的新品。
而半导体产品就是这样的特点，市场说了算。
赢得了市场，赢得了迭代的机会。
他想了想，还是耐心说道，“老师，您知道，我是一个商人。所以我习惯用商业的角度来看待问题。”
拿起矿泉水抿了一口，卿云继续说着，“您说，从投入……或者说对当前工艺的改进角度看，走157nm还是走浸入式193nm容易？”
程进茫然的看着他，摇摇头表示不知道，“但是技术路径就在摆着啊，科研是要攻坚克难的。”
卿云见状也只能无奈的耸了耸肩膀，“科研是科研的事，但作为一个企业家，我告诉你，我肯定选容易的。
有钱有市场我能继续出钱让科研研究下去，没钱我啥事都做不了。”
程进闻言嘶了一声，他好像明白了点。
卿云哂然一笑，“我们想要追赶别人，最好的法子是什么？”
“弯道超车？”
程进嗤笑了一声，他表示，这个口号已经喊了20年了，至少在半导体产业来说，是越超越离世界顶尖水平越远。
卿云翻了一个白眼，“是让敌人陷入泥潭里。”
他双手一摊，“193nm光刻工艺，全世界已经卡了20多年了，我们才刚刚起步，去年华电科45所才开始进行研究。
也就是说，从代际差距来看，此时我们和国际没太大区别，对吧？”
程进觉得自己牙齿有点疼。
特么的，要从这个角度说，确实没啥差距。
但特么的光刻机岂止是光源问题？
卿云见状笑了笑，“我知道差的还很远，但我们现在看得见对吧？但是如果他们走的慢一点，我们是不是差距就越小？
作为商人来说，197nm浸入式立刻可以实现65nm的生产，将现在130nm工艺直接提到半周期。
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